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　　6月17日獲悉，中科院西安光學精密機械研究所“一種畸變測試儀”獲得國家發明專利授權，專利號為“ZL200810151034.5”

　　任何光學系統都難以做到完善成像的要求，只是像差的大小不同而已。光學系統存在畸變將直接影響成像目標的幾何位置精度。因此，對于精密測量相機，如航空測量相機等，畸變的大小對相機測量精度具有決定性的因素。為了得到準確的幾何位置圖像，相機在進行光學設計時不僅要盡可能對畸變進行校正，而且要對實際光學系統進行精密的畸變量測定，以便提供在使用中的修正值。

　　目前國內檢測畸變的方法都采用目標圖案板測量畸變，即在被測光學系統像面處安裝標準網絡版，并將光學系統固定在精密轉臺回轉中心，在被測光學系統物方用望遠鏡觀察網絡版經鏡頭所成的像，并用轉臺記錄每個像高對應的角度。根據望遠鏡測出的像高及轉臺記錄的角度值，計算被測光學系統畸變。但這種方法存在測量精度低，安裝調試工作復雜、結構不穩定、測試效率低，對被測系統工作波段要求較高，測試數據記錄費時費力等缺點。

　　西安光機所研制發明的“一種畸變測試儀”包括轉臺、光源以及顯微成像系統。所述光源以及顯微成像系統處于同于光軸上并置于轉臺兩側。該測試儀提供了一種測量精度高、效率高、結構穩定且功能可以擴展的畸變測試儀，可以解決上述技術問題。