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福建物構(gòu)所黃偉國(guó)研究員、方偉慧研究員 Adv. Mater.:在打破聚合物介電常數(shù)和損耗之間的“平衡”關(guān)系取得新進(jìn)展
2023-09-05  來源:高分子科技

  場(chǎng)效應(yīng)晶體管FETCPU、傳感器和顯示器的核心部件,其中,介電層對(duì)調(diào)節(jié)晶體管的整體性能方面具有至關(guān)重要的作用。目前,電介質(zhì)材料仍然存在多種缺點(diǎn),比如具有強(qiáng)偶極子耦合的鐵電材料或極性聚合物電介質(zhì)中的高極性基團(tuán)在高電場(chǎng)下表現(xiàn)出明顯的極化滯后,導(dǎo)致器件的高損耗。具有高介電常數(shù)的納米顆粒添加劑雖可有效提高聚合物薄膜的電容,但同時(shí)也會(huì)增加漏電損耗并降低介電層的擊穿強(qiáng)度。因此,聚合物介電常數(shù)和損耗之間的內(nèi)在已經(jīng)嚴(yán)重阻礙了高性能聚合物介電材料的發(fā)展


聚合物電介質(zhì)設(shè)計(jì)策略的比較


  中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所團(tuán)隊(duì)提出了一種新的解決方案,即設(shè)計(jì)一種單分散的圓盤狀Ce-Al-OCe@AlM-4大環(huán)作為聚合物介質(zhì)中的摻雜劑由于Ce@AlM-4的三價(jià)離子特性,摻雜后的聚合物薄膜相對(duì)介電常數(shù)增大可高達(dá)7(k ~ 21 @ 20 Hz);此外,Ce@AlM-4具有良好的電荷散射和俘獲能力,以及巨大的分子尺寸(~ 2nm),可有效的降低漏電密度和介電損耗,并提高擊穿強(qiáng)度。另外,Ce@AlM-4豐富的外圍苯基以及彼此之間的靜電斥力,使Ce@AlM-4可以很好地分散在聚合物基體中,最大程度的消除了缺陷位點(diǎn),進(jìn)一步增強(qiáng)擊穿強(qiáng)度。基于上述優(yōu)點(diǎn),摻雜Ce@AlM-4的聚合物介電材料所構(gòu)筑的場(chǎng)效應(yīng)晶體管在保持低泄漏電流水平的同時(shí),提供近三個(gè)數(shù)量級(jí)的源漏電流增量,從而獲得更高的電荷載流子遷移率(高達(dá)2.45 cm2V-1s-1)和開/關(guān)比這項(xiàng)工作成功地打破了聚合物介電常數(shù)和損耗之間的內(nèi)在平衡,為聚合物復(fù)合介電材料提供了一種獨(dú)特的設(shè)計(jì)思路。該成果以“Breaking the Trade-Off Between Polymer Dielectric Constant and Loss via Aluminum Oxo Macrocycle Dopants for High-Performance Neuromorphic Electronics為題,近期發(fā)表于Advanced Materials福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所與福州大學(xué)聯(lián)培碩士研究生陳曉偉孫逸凡和中科院福建物構(gòu)所博士研究生吳孝嵩為本文共同第一作者。方偉慧研究員和黃偉國(guó)研究員為本文的通訊作者。


  原文鏈接:https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.202306260

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