發明/申請人：陳英波，侯敬珂
專利號/申請號：201810986838.0
授權/申請日期：2021-5-4
本發明公開了一種氧化石墨烯鉻黑復合膜及其制備方法,該氧化石墨烯鉻黑復合膜由
基膜和附著在基膜上的過濾層構成過濾層的主要成分由氧化石墨烯和鉻黑構成。制備方法包括如下步驟將氧化石墨烯加純水研磨至粒徑分散均勻,在攪拌條件下加純水,稀釋至一,繼續攪拌,后再在一下超聲一,加入鉻黑,攪拌至混合均勻,得制膜液將適宜量的制膜液加入砂芯漏斗,砂芯漏斗內預先鋪設有基膜真空抽濾,干燥,得到氧化石墨烯鉻黑復合膜。制備方法簡單、高效、成本低、可重復性高得到的產品能大幅度提高對染料的截留率。