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首次發(fā)現(xiàn)變形基底可以加速去潤(rùn)濕速率
來(lái)源:石彤非研究員個(gè)人網(wǎng)站 發(fā)布日期:2010-12-28

Accelerating dewetting on deformable substrates by adding a liquid underlayerLin Xu, Gnter Reiter, Tongfei Shi*, Lijia An*

Langmuir, 26(10), 7270-7276, (2010)

 

 

液體薄膜的去潤(rùn)濕行為是相當(dāng)普遍的現(xiàn)象,決定著涂料、粘結(jié)劑、浮選、多層吸附等許多工業(yè)和技術(shù)應(yīng)用。人們對(duì)固體基底上的去潤(rùn)濕動(dòng)力學(xué)行為進(jìn)行了廣泛的探討和研究,并有了相當(dāng)深入的理解和認(rèn)識(shí)。但相對(duì)與固體基底,在液體或變形基底上的去潤(rùn)濕行為更加復(fù)雜,有很多問(wèn)題還有待解決。前人發(fā)現(xiàn)液體基底的變形越大則去潤(rùn)濕越慢,并認(rèn)為這主要是由于變形越大導(dǎo)致界面摩擦越強(qiáng)進(jìn)而界面能量耗散越大所致。通常,這種額外的能量耗散會(huì)減慢去潤(rùn)濕。但是,我們首次發(fā)現(xiàn)了在變形基底上,可以加速去潤(rùn)濕的新形象。
我們構(gòu)建了三層膜體系【低粘度的PS/高粘度PMMA(厚度HM)/低粘度PMMA(厚度HL)】,發(fā)現(xiàn)隨著中間層厚度HM的增加,不僅能夠減慢去潤(rùn)濕的速度而且還會(huì)加速去潤(rùn)濕過(guò)程;即在一定的HM范圍內(nèi),可以加速去潤(rùn)濕。我們提出在變形基底上的去潤(rùn)濕受到兩個(gè)競(jìng)爭(zhēng)因素的影響:一方面,界面變形引起的界面的能量耗散增加,從而降低去潤(rùn)濕速度;另一方面變形引起的接觸角增加導(dǎo)致毛細(xì)驅(qū)動(dòng)力增加,從而加速去潤(rùn)濕速度總之,在復(fù)雜基底上的去潤(rùn)濕可能會(huì)展現(xiàn)更加令人驚奇的行為,而復(fù)雜的基底在自然界廣泛存在,我們的研究工作將引起更為系統(tǒng)的工作來(lái)探討在復(fù)雜基底上的去潤(rùn)濕行為的理解。
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