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一種二氧化鈦/聚硅氧烷光催化復合膜的制備方法(授權專利號：ZL201310399127.0，授權公告日：2015年10月21日)
發明/申請人：戚棟明、陳智杰、鐘小月、曹志海
專利號/申請號：ZL201310399127.0
授權/申請日期：2015年10月21日
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