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高分散性SiO2/PMMA復合材料的制備與表征——納米SiO2在MMA中的分散
作者:邵建中,袁艷,張睿,吳明華,戚棟明*
關鍵字:納米SiO2,硅烷偶聯劑,分散性,甲基丙烯酸甲酯
論文來源:期刊
具體來源:高分子學報,2011(7): 745-751
發表時間:2011年

用硅烷偶聯劑3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(MPS)對分散于乙醇中的納米SiO2進行偶聯改性,再通過介質置換和原位本體聚合制得SiO2/甲基丙烯酸甲酯(MMA)單體分散液和SiO2/PMMA復合材料。紅外光譜分析(FTIR)和熱重分析(TG)結合洗提實驗考察了SiO2表面MPS的偶聯率和偶聯效率,透射電鏡(TEM)和動態激光粒度分析(DLS)考察了SiO2在乙醇、單體和聚合物基體中的分散狀態,在此基礎上推測MPSSiO2顆粒表面的表觀偶聯密度和偶聯形式,分析偶聯程度對單體和聚合物基體中不同粒徑SiO2分散性的影響。發現 MPS主要以低聚物形式偶聯于SiO2顆粒表面;SiO2分散性主要與其表面MPS的表觀偶聯密度相關,當偶聯密度在1.3~5.6 μmol·(m2·SiO2)-1范圍內時,MPS偶聯完全,SiO2表面改性充分,相應的SiO2顆粒可在單體和聚合物基體內達到初級粒子形式的高度均勻穩定分散,且這種高分散性在實驗范圍內基本不受SiO2含量的影響。本研究所制備的SiO2/單體分散液具有高分散性、高無機含量、高貯藏穩定性、SiO2表面活化程度可調控等特征,適合于在原位非均相聚合中制備形態結構可控的有機/無機復合材料。

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