發明/申請人：張明，李大軍，嚴長浩，王文，吳德峰，陸宏良
專利號/申請號：ZL200610037630.1
授權/申請日期：2008-5-28
聚酰胺/石墨納米導電復合材料及其制備方法,涉及一種聚酰胺/石墨納 米導電復合材料的工藝,由主基體聚酰胺、輔基體和石墨組成,各組分的質 量份為：主基體聚酰胺100份、輔基體5～60份、石墨2～40份。本發明具 有較低的滲濾閾值(3-4％)和較高的電導率。由于導電填料填充量較低, 本發明基本保持了尼龍的優異的力學性能和加工性能,同時,又具有較好的 抗靜電性,因此具有廣闊的工業化前景,有望在防靜電材料、電磁屏蔽材料、 微波吸收等領域獲得廣泛的應用。