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2010十大新興技術(shù)展望:塑料內(nèi)存可重復(fù)讀寫(xiě)
2009-11-26 來(lái)源:新浪科技
關(guān)鍵詞:聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯 塑料內(nèi)存 可重復(fù)讀寫(xiě)
  北京時(shí)間11月25日消息,經(jīng)濟(jì)衰退意味著變革的到來(lái),而要變革,便需加大對(duì)新產(chǎn)品研發(fā)的投資力度。眾所周知,市場(chǎng)和繁榮從來(lái)不會(huì)以相同的模式回到以前的狀態(tài)。雖然軟件的影響力和重要性可能會(huì)在明年有所增強(qiáng),不過(guò),全球著名電子技術(shù)類期刊《EE Times》評(píng)選出的2010年十大新興技術(shù)卻主要集中在硬件方面。
  有些長(zhǎng)期的科技趨勢(shì)并沒(méi)有出現(xiàn)在榜單上,而那些在省電、降低二氧化碳排放量等方面有優(yōu)勢(shì)的技術(shù)在此次評(píng)選中獨(dú)領(lǐng)風(fēng)騷,它們還驅(qū)動(dòng)著其他一些新技術(shù)的發(fā)展。盡管我們不能對(duì)明年的科技發(fā)展做出完全準(zhǔn)確的預(yù)測(cè),但部分技術(shù)及提供這些技術(shù)的廠商定會(huì)改變2010年的行業(yè)環(huán)境。以下是2010年十大新興技術(shù)榜單。
  1.對(duì)電子裝置的生物回饋(biofeedback)與思想控制
  大量企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)實(shí)施的研究均表明,利用安裝在頭頂或耳機(jī)上的傳感器,腦波可以被用于控制電腦系統(tǒng)。這類技術(shù)目前主要應(yīng)用于醫(yī)療(讓重度殘障人士能進(jìn)行溝通或控制外部環(huán)境)及軍事領(lǐng)域,也越來(lái)越多地用在消費(fèi)電子產(chǎn)品與電腦游戲的控制界面。這或許聽(tīng)上去有點(diǎn)像科幻小說(shuō)中的場(chǎng)景,但通過(guò)思維控制的人機(jī)界面現(xiàn)已存在,像總部設(shè)在美國(guó)加利福尼亞州舊金山的Emotiv Systems Inc。這樣的公司就在積極推廣這種技術(shù)。
  2.印刷電子
  如果可以快速印刷出多個(gè)導(dǎo)體層、絕緣層或半導(dǎo)體層以形成電子電路,那么相比于傳統(tǒng)制造工藝,采用這種技術(shù)生產(chǎn)的集成電路成本會(huì)更低。通常情況下,印刷半導(dǎo)體意味著要使用性能與硅截然不同的有機(jī)材料,甚至還要用到比在硅材料中獲得的更大的幾何極限。此外,還有許多應(yīng)用將受益于低價(jià)軟性基板的優(yōu)良性能,如RFID標(biāo)簽,用于顯示器的主動(dòng)矩陣背板(active-matrixbackplane)。印刷硅電子產(chǎn)品領(lǐng)域的先驅(qū)Kovio公司自2001年創(chuàng)立以來(lái),便一直在不斷改善印刷電子技術(shù),并在2009年7月宣布成功融資2000萬(wàn)美元。該公司表示,他們計(jì)劃將這筆錢(qián)投入到公司的RF條形碼批量生產(chǎn)中。
  3.塑料內(nèi)存
  塑料內(nèi)存與印刷電子技術(shù)存在著某種聯(lián)系,因?yàn)榭赡苄枰∷⒓夹g(shù)進(jìn)行生產(chǎn)。相比于硅材料,塑料內(nèi)存的性能更佳,成本也更低。這個(gè)領(lǐng)域的先驅(qū)是總部設(shè)在挪威奧斯陸的Thin Film Electronics公司。該公司多年來(lái)致力將該技術(shù)進(jìn)行商業(yè)化,與芯片制造商英特爾合作過(guò)一段時(shí)間。塑料內(nèi)存是基于聚噻吩(polythiophene),這是一個(gè)具有鐵電特性的聚合物家族。據(jù)Thin Film Electronics介紹,塑料內(nèi)存可重復(fù)讀寫(xiě),是非揮發(fā)性材料,資料保存期限超過(guò)十年,讀寫(xiě)周期超過(guò)一百萬(wàn)次。2009年9月,德國(guó)PolyIC GmbH & Co.KG公司通過(guò)這項(xiàng)技術(shù),將聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate)作為基板,開(kāi)發(fā)出一個(gè)20位的內(nèi)存。
  4.無(wú)光罩微影
  對(duì)于很多人來(lái)說(shuō),有關(guān)半導(dǎo)體微影的主要問(wèn)題是,超紫外光微影何時(shí)取代浸潤(rùn)式微影技術(shù)?在這場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中跑出了匹“黑馬”,即無(wú)光罩微影(Masklesslithography)。這種技術(shù)以電子束為基礎(chǔ),總部設(shè)在荷蘭代夫特的Mapper Lithography公司正在大力推動(dòng)該技術(shù)的發(fā)展。2009年7月,Mapper向法國(guó)格拉諾布爾的研究機(jī)構(gòu)CEA-Leti提供了一個(gè)300毫米電子束微影平臺(tái),供臺(tái)灣集成電路制造股份有限公司(簡(jiǎn)稱臺(tái)積電)從事相關(guān)研究。臺(tái)積電是世界微影技術(shù)的重要研究機(jī)構(gòu),之所以對(duì)Mapper公司的技術(shù)感興趣,是希望在同對(duì)手的競(jìng)爭(zhēng)中占得先機(jī)。
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(藍(lán)劍)
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