美國導(dǎo)電復(fù)合材料公司開發(fā)出鎳化學(xué)氣相沉積法(CVD)涂層非織造布。
該開發(fā)技術(shù)使復(fù)合材料、聚合物體系具有導(dǎo)電性和電磁屏蔽(EMI)解決方案 。該公司的導(dǎo)電產(chǎn)品組合包括鎳納米材料、無紡布、鍍鎳碳纖維和EMI屏蔽導(dǎo)電聚合物產(chǎn)品。使用鎳化學(xué)氣相沉積法(CVD)技術(shù),涂層可使用在任何基材上,包括由碳纖維、芳綸、玻璃纖維和碳納米材料制成的無紡布和粘合非織造布。
該公司介紹CVD涂層非織造布比使用導(dǎo)電纖維生產(chǎn)的非織造布更輕、更薄、導(dǎo)電性更好。使用化學(xué)氣相沉積法,外表面被涂層的片材具有非常低的電阻率, 且價格更具競爭力。
“CVD涂層非織造布具有明顯的性能優(yōu)勢, 能為客戶節(jié)約大量的成本,我們現(xiàn)有市場和發(fā)展中市場的需求量不斷增加。我們在產(chǎn)能擴張和商業(yè)化方面的投資,能增強我們向市場提供具有競爭力材料的能力。”公司總裁漢森說。