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NdCl3鍍液濃度對電鍍CoNdNiMnP永磁薄膜陣列磁性能的影響  
NdCl3鍍液濃度對電鍍CoNdNiMnP永磁薄膜陣列磁性能的影響
資料類型: PDF文件
關鍵詞: CoNdNiMnP永磁薄膜陣列  電鍍  垂直各向異性  鐵磁耦合  
資料大小: 126K
所屬學科: 性能表征
來源: 來源網絡
簡介:
基于輕稀土元素-Nd與過渡金屬元素-Co之間的鐵磁耦合作用提高電鍍CoNiMnP永磁薄膜陣列的磁性能,在電鍍時引入稀土Nd元素進入CoNiMnP永磁薄膜陣列中,通過改變鍍液中NdCl3的濃度而改變CoNdNiMnP薄膜中的Nd含量。對鍍液中NdCl3濃度與薄膜磁性能的關系進行了分析與測試,結果表明:室溫下,在電流密度為5mA/cm2時,具有垂直各向異性的CoNdNiMnP永磁薄膜陣列被成功地電鍍得到。隨著NdCl3濃度的增加,薄膜的磁性能提高,當NdCl3濃度增加到0.25103g/cm3時,薄膜的磁性能達到最大值,繼續增加鍍液中NdCl3濃度,薄膜陣列的磁性能不再增加。
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上傳時間: 2007-07-16 14:14:04
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