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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
納米壓印 紫外光刻膠 點擊化學 低倍多聚籠狀硅氧烷化合物 |
| 資料大小： |
1052K |
| 所屬學科： |
分子表征 |
| 來源： |
2011年全國高分子學術論文報告會（2011.9.24~28，大連） |
| 簡介： |
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我們設計并開發了一種基于硫醇點擊化學的新型紫外光刻膠，并成功將其應用于納米壓印中。該紫外光刻膠主要成分包括含巰基的低倍多聚籠狀硅氧烷化合物（POSS-SH），反應性單體甲基丙烯酸芐脂（BMA），及交聯劑三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯（TMPT）。 |
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| 作者： |
林宏，萬霞，姜學松，王慶康，印杰
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| 上傳時間： |
2012-02-28 14:35:26 |
| 下載次數： |
3 |
| 消耗積分： |
4
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