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聚偏氟乙烯／銅酞菁／納米石墨微片復合材料的制備與介電性能

資料類型：

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關鍵詞：

納米石墨微片酞菁介電性能復合材料

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191K

所屬學科：

分子表征

來源：

第十三屆全國應用化學會議論文集（2013.8.23~26，長春）

簡介：

通過熱壓成型技術制備聚偏氟乙烯(PVDF)／納米石墨微片(GNS)、聚偏氟乙烯／酸化納米石墨微片(AGS)、聚偏氟乙烯／銅酞菁(CuPc)／酸化酸化石墨微片復合材料。通過酸化處理以及銅酞菁的加入，使得納米石墨微片在聚偏氟乙烯基體的分散度呈現出以下趨勢：PVDF/CuPc/AGS>PVDF/AGS>PVDF/GNS。由于納米石墨微片良好的分散性以及銅酞菁(CuPc)電子屏障效應使得PVDF/CuPc/AGS復合材料比PVDF/AGS和PVDF/GNS復合材料顯示出更好的介電性能，其介電常數在10KHz下的為327，介電損耗為0.63。

作者：

張云鶴王琦桐姜文龍姜振華

上傳時間：

2013-11-01 15:03:20

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