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具有隔離結構的RGO/UHMWPE電磁屏蔽材料

資料類型：

JPG圖片格式

關鍵詞：

石墨烯超高分子量聚乙烯隔離結構電性能電磁屏蔽性能

資料大小：

415KB

所屬學科：

分子表征

來源：

第二屆高分子成型加工及其產業發展研討會(2015.5.16－18成都)

簡介：

石墨烯由于極大的比表面積、徑厚比和高電導率，廣泛用于導電高分子復合材料[1, 2]。本文通過溶液輔助分散法將氧化石墨烯(GO)包覆在超高分子量聚乙烯(UHMWPE)微粒表面，并通過水合肼還原、模壓成型制備了還原氧化石墨烯(RGO)/UHMWPE導電復合材料。光學顯微鏡形態結果表明RGO選擇性分布在UHMWPE微區界面處形成連續導電網絡，即在復合材料中形成隔離結構[3, 4]。熱壓成型過程中，由于UHMWPE的高熔體粘度，RGO很難滲入到UHMWPE微區內部，最終選擇性分布于微區界面。研究發現，隔離結構形成有利于提高RGO/UHMWPE復合材料的高電磁屏蔽性能。RGO含量僅為1.5 vol%時，復合材料平均磁屏蔽效能(EMI SE)可達26.7 dB，已滿足商業應用基本水平(20 dB)；RGO含量增加到6.4 vol%時，平均EMI SE可提高至47.3 dB。

作者：

崔成華，龐歡，鄢定祥，李忠明

上傳時間：

2015-06-26 15:13:23

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