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國內同步輻射發展狀況及其在高分子結構研究中可能的應用  
國內同步輻射發展狀況及其在高分子結構研究中可能的應用
資料類型: PDF文件
關鍵詞: 同步輻射  高分子結構  散射  譜學  
資料大小: 119K
所屬學科: 分子表征
來源: 2007年全國高分子學術論文報告會(10.9-10.13,成都)
簡介:
本文簡要介紹我國同步輻射的發展現狀和建設目標。北京同步輻射由于與正負電子對撞機共用,每年只供光2到3個月。合肥光源是同步輻射專用光源,全年供光,光源主要在軟X射線和真空紫外段。正在建設的上海光源是第三代同步輻射光源,主要以硬X射線為主。結合三個同步輻射裝置,國內高分子界用戶完全可以在上面開展特色研究。合肥光源可以提供近邊吸收精細結構光譜,軟X射線顯微,顯微紅外成像和真空紫外圓二色光譜,通過高分子譜學及成像研究高分子集聚態結構,上海光源在建一條小角和廣角X射線聯用實驗站,配上高分子材料加工的原位裝置,可以研究高分子加工過程中的物理問題。本文簡要介紹這些實驗站的原理和配置條件,供高分子用戶參考,并希望高分子用戶為實驗站建設提建議,共同建設針對高分子研究的實驗站。
作者: 李良彬 王劼
上傳時間: 2007-12-20 14:33:43
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相關評論 共有6人發表評論 更多評論
ziziicecream    2010-10-26 17:33:14
頂頂頂頂頂。真是幫了大忙了。。。
fengxm2010    2010-04-09 11:06:06
很不錯的文章,找了好久,終于找到了
lixiaoyun    2010-04-09 9:57:24
文章不錯,研究研究
frankfudan    2009-05-22 15:21:09
ggggggggggggg
cuidegang    2008-12-14 20:37:23
很好,好好好哦啊好哦啊好哦啊哈!
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