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通用高分子材料
> 大面積光學(xué)級金剛石自支撐膜制備、加工及應(yīng)用
大面積光學(xué)級金剛石自支撐膜制備、加工及應(yīng)用
大面積光學(xué)級金剛石自支撐膜制備、加工及應(yīng)用
資料類型:
PDF文件
關(guān)鍵詞:
光學(xué)級金剛石膜
制備和加工
光學(xué)性能
熱學(xué)性能
機(jī)械性能
微波介電性能
資料大小:
280K
所屬學(xué)科:
通用高分子材料
來源:
來源網(wǎng)絡(luò)
簡介:
大面積光學(xué)級金剛石自支撐膜的制備和加工是近年來在CVD金剛石研究領(lǐng)域的最重要的技術(shù)進(jìn)展之一。在軍事和民用光學(xué)領(lǐng)域有非常重要的應(yīng)用前景。本文綜述了北京科技大學(xué)近年來在CVD金剛石膜光學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域的研究進(jìn)展。給出了采用高功率直流電弧等離子體噴射(DCArcPlasmaJet)CVD工藝制備大面積光學(xué)級金剛石自支撐膜的研究結(jié)果,并報(bào)導(dǎo)了對所制備的光學(xué)級金剛石自支撐膜的光學(xué)、力學(xué)(機(jī)械)、熱學(xué)、微波介電性能和抗激光損傷等方面的最新研究結(jié)果。
上傳人:
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2007-07-18 13:47:38
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chhzhjm
2009-02-02 0:52:37
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