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立方氮化硼薄膜表面的XPS研究 |
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資料類(lèi)型: |
PDF文件
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關(guān)鍵詞: |
立方氮化硼薄膜 表面 X射線光電子能譜 |
資料大小: |
247K |
所屬學(xué)科: |
結(jié)構(gòu)表征 |
來(lái)源: |
來(lái)源網(wǎng)絡(luò) |
簡(jiǎn)介: |
研究立方氮化硼薄膜表面的性質(zhì)對(duì)于研究立方氮化硼薄膜的成核機(jī)理和應(yīng)用,具有重要的價(jià)值。本文用XPS對(duì)立方氮化硼薄膜表面進(jìn)行研究,并對(duì)有關(guān)問(wèn)題進(jìn)行了討論。XPS分析表明,立方氮化硼薄膜表面除了B、N外,還含有C和O。從XPS譜圖計(jì)算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B為0.90,較接近于氮化硼的理想化學(xué)配比1:1;不含立方相的氮化硼薄膜的N/B為0.86,離氮化硼的理想化學(xué)配比1:1較遠(yuǎn)。計(jì)算表明立方氮化硼薄膜的頂層六角相的厚度約為0.8nm。 |
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上傳人: |
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上傳時(shí)間: |
2007-07-06 15:58:47 |
下載次數(shù): |
593 |
消耗積分: |
2
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rlboye 2009-04-15 14:15:31 |
資料比較好,要是有有機(jī)方面的就更好了 |
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