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用于制作光波導器件的新型高含氟光刻膠的合成與表征

資料類型：

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關鍵詞：

含氟光刻膠光波導光損

資料大小：

127K

所屬學科：

分子表征

來源：

2009年全國高分子學術論文報告會（8.18-8.22，天津）

簡介：

聚合物光波導材料由于其優良的機械性能，及器件易于加工，易于同無機組分雜化，制作費用低等特點，將在迅速發展的寬帶通訊領域得到廣泛的應用[1]。含氟光波導材料更因為具有較低的折射率、光損和吸濕性更加得到大家的關注[2]。其中作為主體材料用于光波導制作的光刻膠材料，還因自身的光敏性能大大縮減了制作過程及降低了制作費用，并能夠得到側壁更加陡直的光波導[3]。本文介紹了一種節約成本、制備方法簡便、低光損的含氟光刻膠。這種新型光刻膠有著很好的溶解性，固化交聯后具有較好的熱穩定性,并且材料中氟原子取代了大部分氫原子使其在近紅外波段尤其是光的通訊窗口（1310nm和1550nm）的吸收較小，有效的降低了光損，所以其在光波導材料方面有很好的應用前景。

作者：

萬瑩，費旭，周金山，崔占臣

上傳時間：

2009-09-25 14:04:07

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