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中科院寧波材料所在表面高分子功能化技術方面取得進展
2014-11-28  來源:中國聚合物網

  圖案化高分子薄膜材料在諸如光電子器件及化學和生物芯片等多個領域的應用越來越廣泛,因而發展簡單、高效且低成本獲得圖案可調的高分子薄膜新方法具有十分重要的意義。微接觸印刷技術因制備工藝簡單、成本低廉、無需復雜苛刻的條件,受到學術界、工業界的青睞,被廣泛用來織構以表面接枝高分子刷為代表的圖案化高分子薄膜材料。該技術通常是利用微接觸來轉移印章上作為“墨水”的引發劑到目標基底上,經表面引發聚合進行放大而獲得表面限定的高分子刷薄膜材料。然而目前微接觸印刷技術基本采用巰基引發劑與鍍金基底之間形成金硫共價鍵,進而通過表面引發聚合,如活性的原子轉移自由基聚合(ATRP)的方法放大而獲得圖案化高分子刷薄膜材料。金硫共價鍵在溫度稍高(60℃)的情況下即呈現出不穩定狀態,極大的限制了以金為基底的高分子薄膜材料的應用。

  為了加強表面高分子功能化的穩定性,同時又能夠滿足在以硅為基底的微電子領域的潛在應用,開發一種簡便、高效、普適性強的圖案化修飾技術勢在必行。針對這一問題,寧波材料所智能高分子材料團隊在陳濤研究員和張佳瑋副研究員的帶領下,基于課題組前期在表面高分子功能化與形貌調控及基于超分子相互作用等方面的前期積累,采用微接觸印刷的方式,以大量商業化的含光活性基團的化學物質(如芘甲胺等)為墨水,在羥基化硅表面構筑基于超分子作用的納米尺度的自組裝光活性層。考慮到目前的活性聚合方法需要苛刻的反應條件等因素,研究人員采用自引發光接枝光聚合(Self-initiated Photografting and Photopolymerization,SIPGP)的方法在無需催化劑、配體等條件下成功接枝圖案化的高分子薄膜材料。

   該項工作極大拓展了微接觸印刷的概念及其墨水的使用范圍,有望在幾乎所有羥基化的表面實現高分子的快速功能化,相關研究工作發表在Chem. Commun.2013, 49, 11167 (IF=6.718)上。該研究團隊最近發展了這一思路,制備了具有導電特性的高分子雜化材料體系。實驗室科研人員將氧化石墨烯作為墨水,利用微接觸印刷在硅表面制備了一系列圖案化的氧化石墨烯微結構,并通過SIPGP 的方法直接在光活性的氧化石墨烯表面成功接枝了各種乙烯基高分子薄膜材料。該研究結果發表在Chem. Commun.2014, 50,7103 (IF=6.718)上,并被選為當期的內封面文章。

   上述研究成果是對表面的高分子功能化與圖案化領域的有效補充及創新,為以超分子自組裝為基礎的高分子薄膜材料的簡單、快速及低成本化制備提供了新的思路。研究工作得到了國家青年千人計劃、國家自然科學基金(51303195, 21304105)、浙江省杰出青年基金(LR14B040001)及寧波市自然科學基金(2014A610127)的資助。 

微接觸誘導的基于超分子作用的納米尺度的自組裝光活性層的構建及其聚合放大得到的高分子薄膜材料的原子力顯微圖像

通過引入氧化石墨烯活性自組裝層構建功能化的高分子薄膜材料;當期雜志的內封面

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(責任編輯:xu)
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