美刊公布納米微型產品制作工藝流程
2008-08-06 來源：中國聚合物網
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5、托馬斯-梅森教授介紹基本操作
托馬斯-梅森教授在介紹曝光機的基本操作。在第一步操作中，通過向感光性極強的聚合物照射強烈的紫外線，曝光機可以形成微縮版本的圖像。曝光機不斷重復上述操作，直到圖像數倍地放大于硅片之上。這也是曝光機英文名稱的來源。
6、曝光機內部90公斤重的透鏡
在曝光機內部，裝有一個90公斤重的透鏡(見圖的中部)。透鏡用于形成特定截面圖形的光柱，在聚合物上精確刻畫出微縮版的圖像。透鏡的精度極高，從而避免圖像曝光過程產生的各種誤差。
7、自動機械臂抓住納米硅片
在曝光機內，一個自動機械臂抓住硅片。通過自動機械臂不斷曝光硅片，每次只曝光硅片的一部分。整個硅片的曝光過程，大約需要1分鐘。1分鐘內可以生產數以十億計的微顆粒。
8、曝光機須保持完全靜止狀態
曝光機被放置于一個充滿空氣的潮濕系統中(圖中藍色頂部的圓柱體)，以保證曝光機完全靜止。正如照相時，也一定要保持相機的絕對穩定。如果在曝光的過程中出現震動，那么生產出來的十億顆產品都可能存在誤差。工作平臺(見圖中粉紅色光亮部分)恰好可以在曝光點之間移動硅片。
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（責任編輯：龍翔）
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