金屬有機框架(MOFs)以其化學和結(jié)構(gòu)多樣性而備受關(guān)注,已成為構(gòu)建微型固態(tài)器件的新興材料。例如,受益于獨特的多孔結(jié)構(gòu),MOFs展現(xiàn)出低介電常數(shù)和便捷離子傳導等優(yōu)異特性,有望用作集成電路導線間隙填充或構(gòu)建電致變色器件的重要材料。再如,將MOFs的選擇性吸附與光衍射、發(fā)光以及其他光/電轉(zhuǎn)導機制相結(jié)合,也為新型化學和生物傳感光學器件構(gòu)建提供了更多可能。但是,將MOF薄膜整合到上述器件中,特別是高度集成的微電子器件和納米光學器件,需要借助有效的圖案化方法。目前已發(fā)展的MOFs圖案化方法存在諸多局限,如材料適用性受限、圖案分辨率低、可擴展性差以及圖案化后MOFs性質(zhì)受損等問題。因此,亟需開發(fā)適用于MOFs的新的圖案化方法。
鑒于此,清華大學張昊課題組開發(fā)了一種普適性的配體交聯(lián)誘導的MOFs圖案化方法(crosslinking-induced patterning of MOFs),簡稱為CLIP-MOF。該方法基于配體交聯(lián)所導致的膠體MOFs溶解度的變化,在不需要光刻膠的條件下實現(xiàn)了MOFs微納尺度的直接光刻或電子束光刻。具體來說,CLIP-MOF以對紫外光和電子束敏感的雙疊氮基分子為交聯(lián)劑,使光/電子束照射區(qū)域的MOFs納米顆粒形成不溶于洗脫劑的交聯(lián)網(wǎng)絡,進而通過選擇性溶解未暴露區(qū)域的MOFs實現(xiàn)圖案化。該方法可在大面積、剛性或柔性基底上實現(xiàn)微米/納米尺度(最高精度約70 nm)、適用于多種MOFs的圖案化。圖案化的MOFs薄膜保留了它們的結(jié)晶度、孔隙率和其他特性,并可用于構(gòu)建衍射光柵型氣體傳感器和像素化的電致變色器件等。CLIP-MOF為MOFs在各種電子、光子和生物醫(yī)學設備中的系統(tǒng)級集成創(chuàng)造了更多的可能性。相關(guān)工作以“Crosslinking-induced patterning of MOFs by direct photo- and electron-beam lithography”發(fā)表在《Nature Communications》。該工作的第一作者為清華大學化學系博士生田曉麗,通訊作者為清華大學化學系張昊副教授(課題組網(wǎng)頁,https://www.x-mol.com/groups/Zhang_hao?lang=en)。研究工作得到了清華大學化學系李景虹教授、中科院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所涂敏研究員的指導和幫助,并得到了國家重點研究計劃、自然科學基金、清華大學自主科研計劃交叉專項和篤實專項的資助。
圖1. CLIP-MOF的化學機理和圖案化過程示意圖。
【圖案化化學機制】
圖2. CLIP-MOF中潛在的配體交聯(lián)化學。
圖4. 多種MOFs的直接光刻。
圖3展示了在剛性和柔性基底上制備的微米尺度的ZIF-8圖案,包括字母、像素陣列和復雜圖案。所使用的ZIF-8 NPs表面為BrijC10配體(簡寫為ZIF-8@BrijC10)。電子能譜(EDS)確認了微點圖案由交聯(lián)的ZIF-8組成,其中Zn和F分別來自ZIF-8和交聯(lián)劑(圖3c)。放大的SEM和AFM圖像顯示出致密的MOFs圖案薄膜,其表面粗糙度約為13 nm,與未圖案化的ZIF-8@BrijC10薄膜相似(圖3e, f)。此外,CLIP-MOF可實現(xiàn)大面積基底(如4英寸硅片)上的圖案化,如圖3g所展示的元素周期表圖案。CLIP-MOF也適用于任意基底(硅晶圓、玻璃、金屬、導電氧化物等),包括柔性可彎曲基底等(圖3h)。
CLIP-MOF普遍適用于具有不同成分、結(jié)構(gòu)、孔隙度和功能的各種MOFs。圖4a-d展示了由四種代表性MOF NPs組成的圖案化薄膜,分別是ZIF-8@CTAB、ZIF-7@PEI、HKUST-1@OA/OLAM和UiO-66@PAA。插圖中的EDS數(shù)據(jù)顯示了每種MOF中對應的金屬元素。這些MOFs具有不同的材料特性,但在所有情況下都獲得了高保真度的像素陣列。進一步地,CLIP-MOF克服了以往MOF圖案化方法僅能構(gòu)建含有1種或2種MOFs的圖案的局限,實現(xiàn)了逐層、多材料MOFs的圖案化(圖4e, f)。CLIP-MOF所展現(xiàn)出的材料普適性、高分辨率、高保真度、多材料圖案化和快速大批量制備等優(yōu)勢,使其超越了現(xiàn)有的MOFs圖案化方法,為構(gòu)建含有多組分MOFs的化學/生物傳感和微電子/納米光學器件提供了潛在的加工方法。
【圖案化MOFs的性質(zhì)和應用展示】
圖6. 圖案化薄膜的應用實例。
作為概念驗證,作者制作了具有衍射陣列(總面積2.5 × 2.5 mm2;線寬5 μm;間距尺寸25 μm)圖案的MOFs氣體光學傳感器。氣體傳感基于揮發(fā)性氣體分子吸附后(例如,ZIF-8中的乙醇和丙酮)引起MOFs的折射率變化,從而導致檢測到的一階衍射強度的變化。基于此原理,圖案化的MOFs衍射光柵傳感器可以監(jiān)測封閉環(huán)境中乙醇和丙酮等蒸汽壓力的變化(圖6a-c)。作者還通過將負載了電致變色分子的MOFs顆粒圖案化,構(gòu)建了像素化的電致變色器件(圖6d-f)。
除了通過直接光刻技術(shù)進行微米級圖案化之外,CLIP-MOF還可以使用電子束光刻(EBL)技術(shù)進行納米級圖案化。納米級圖案化對于將MOFs集成到納米光子學和微型化電子學中至關(guān)重要。圖7a展示了HKUST-1@OA/OLAM條紋圖案的SEM圖像。最小線寬約為70納米,與現(xiàn)有直接電子束光刻MOFs中實現(xiàn)的最高分辨率相當。圖7b、c顯示MOF圖案薄膜厚約70納米。圖案化薄膜的表面粗糙度僅為約2.3納米。需要指出的是,CLIP-MOF中,電子束光刻圖案化基于配體交聯(lián)化學所導致的MOF NPs溶解性的變化,因此相比其他的MOFs電子束光刻圖案化方法需要極低的電子束劑量(50 μC cm-2)。
原文鏈接:https://www.nature.com/articles/s41467-024-47293-6
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