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藍寶石襯底化學(xué)機械拋光的機理研究

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關(guān)鍵詞：

化學(xué)機械拋光藍寶石襯底機理去除速率動力學(xué)過程

資料大小：

347K

所屬學(xué)科：

分子表征

來源：

2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)

簡介：

利用磨料為SiO2的堿性拋光液對藍寶石襯底材料進行了化學(xué)機械拋光，并對藍寶石襯底化學(xué)機械拋光（簡稱CMP）的機理進行了深入的研究，指出了藍寶石CMP的主要的動力學(xué)過程，并詳細分析了影響各動力學(xué)過程的諸要素。結(jié)果表明，藍寶石襯底的CMP過程是一個復(fù)雜的多相反應(yīng)過程，是化學(xué)作用與機械作用互相加強和促進的過程，影響它的各要素間既相互促進，又相互制約。

作者：

牛新環(huán)，劉玉嶺，檀柏梅，馬振國

上傳時間：

2008-05-16 15:12:30

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houlei85 2013-05-30 10:01:58

小粒徑的磨料好嗎？

025zhu 2011-03-11 20:57:39

不是太具體其中沒有太多的技術(shù)參數(shù)

mpc2001 2008-12-08 11:08:49

還是不錯的。

chenchaoxuguoxiu 2008-12-04 16:46:15

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