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> 濺射氣壓對(duì)FeCoSiB 非晶薄膜表面形貌及磁特性的影響
濺射氣壓對(duì)FeCoSiB 非晶薄膜表面形貌及磁特性的影響
濺射氣壓對(duì)FeCoSiB 非晶薄膜表面形貌及磁特性的影響
資料類型:
PDF文件
關(guān)鍵詞:
fecosib
非晶薄膜
濺射氣壓
表面形貌
矯頑力
剩磁
資料大小:
360K
所屬學(xué)科:
分子表征
來(lái)源:
2007年第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國(guó)際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19,武漢)
簡(jiǎn)介:
利用磁控濺射的方法,在玻璃基片上制備了FeCoSiB非晶薄膜,研究了濺射Ar氣壓強(qiáng)對(duì)薄膜表面形貌及磁特性的影響。結(jié)果表明,薄膜的表面形貌顯著依賴于Ar氣壓強(qiáng),隨著Ar壓強(qiáng)的增加,薄膜表面顆粒增大,粗糙度增加并形成柱狀微結(jié)構(gòu)。Ar氣壓強(qiáng)對(duì)薄膜磁特性有顯著的影響,隨Ar壓強(qiáng)增加,薄膜的矯頑力增加,而剩磁則呈下降趨勢(shì)。從薄膜的磁滯回線、矯頑力以及剩磁隨濺射氣壓的變化規(guī)律可知,濺射氣壓較小時(shí)制備的薄膜軟磁性能較好。
作者:
湯如俊,謝巧英,彭斌,張萬(wàn)里,張文旭,蔣洪川
上傳時(shí)間:
2008-08-20 15:29:51
下載次數(shù):
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