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In 摻雜對(duì)CdMnTe 晶體性能的影響  
In 摻雜對(duì)CdMnTe 晶體性能的影響
資料類型: PDF文件
關(guān)鍵詞: cdmnte  in  摻雜  x  射線衍射  電阻率  紅外透過率  
資料大小: 326K
所屬學(xué)科: 分子表征
來源: 2007年第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國(guó)際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19,武漢)
簡(jiǎn)介:
采用垂直Bridgman法生長(zhǎng)了In摻雜Cd0.8Mn0.2Te晶體(CdMnTe∶In)和本征的Cd0.8Mn0.2Te晶體(CdMnTe)。X射線粉末衍射、X射線雙晶搖擺曲線和位錯(cuò)密度測(cè)試表明,所生長(zhǎng)晶體均為立方閃鋅礦結(jié)構(gòu),半峰寬為40~80arcsec,位錯(cuò)密度為104~105cm-2,結(jié)晶質(zhì)量良好。In摻雜不影響晶體的結(jié)構(gòu)和結(jié)晶質(zhì)量。電流-電壓(I-V)測(cè)試表明,CdMnTe:In晶體的電阻率為1~3109Ωcm,與CdMnTe晶體相比上升了3個(gè)數(shù)量級(jí)。近紅外光透過光譜(IRtransmission)研究發(fā)現(xiàn)In摻雜后CdMnTe晶體紅外透過率降低,在波數(shù)范圍4000~1000cm-1,CdMnTe晶體紅外透過率為51.2%~56.4%,而CdMnTe∶In的紅外透光率為15.4%~21.6%。
作者: 張繼軍,王領(lǐng)航,王濤,曾冬梅,介萬奇
上傳時(shí)間: 2008-08-22 15:03:03
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