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無反應(yīng)直流濺射中功率對ZnO:Al 薄膜光電性能與形貌的影響

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關(guān)鍵詞：

ZAO 薄膜功率電阻率透光率形貌

資料大小：

516K

所屬學科：

分子表征

來源：

2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學術(shù)會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)

簡介：

采用氧化鋅鋁陶瓷靶材，在室溫下使用無氧直流磁控濺射法于載玻片襯底上制備了ZnO:Al透明導電薄膜，研究了濺射功率對薄膜微觀結(jié)構(gòu)、電阻率和透光率的影響。結(jié)果表明：薄膜具有六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)并沿c軸擇優(yōu)取向生長，沉積速率與濺射功率呈準線性關(guān)系。濺射功率對薄膜的電阻率和表面形貌有顯著影響，當功率為80W和120W時，薄膜的電阻率值為7.210-3Ωcm和2.310-3Ωcm，表面形貌分別為光滑與織構(gòu)化。但濺射功率對薄膜的透光率影響不大，薄膜在可見光區(qū)的平均透光率均在90%左右。

作者：

許積文，王華，任明放，成鋼

上傳時間：

2008-09-09 17:09:30

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