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> 射頻濺射制備氧化鎳電致變色薄膜的研究
射頻濺射制備氧化鎳電致變色薄膜的研究
射頻濺射制備氧化鎳電致變色薄膜的研究
資料類型:
PDF文件
關(guān)鍵詞:
電致變色
NiOx薄膜
射頻濺射
資料大小:
401K
所屬學(xué)科:
分子表征
來(lái)源:
2007年第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國(guó)際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19,武漢)
簡(jiǎn)介:
采用射頻反應(yīng)磁控濺射工藝,以純鎳靶為靶材,在SnO2玻璃上制備電致變色NiOx薄膜。通過(guò)對(duì)薄膜X射線衍射(XRD)、X光電子能譜(XPS)、掃描隧道顯微鏡(STM)、循環(huán)伏安曲線及可見(jiàn)光透過(guò)率的測(cè)定,探討了NiOx薄膜的電致變色性能和微觀結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系,研究了熱處理過(guò)程中的結(jié)構(gòu)變化和表面形貌。測(cè)試表明該氧化鎳薄膜具有良好的電致變色性能和陽(yáng)極著色效應(yīng),以及較高的使用壽命。
作者:
劉化然,閻剛印,劉 芳,盛英卓,馮博學(xué)
上傳時(shí)間:
2008-09-10 13:07:44
下載次數(shù):
28
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