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電解液中Ce3+/ Ce4+含量對ZAlSi12Cu2Mg1 微弧氧化膜特性和表面形貌的影響

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關鍵詞：

鑄造鋁合金微弧氧化陶瓷層 Ce3+ Ce4+

資料大小：

383K

所屬學科：

分子表征

來源：

2007年第六屆中國功能材料及其應用學術會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)

簡介：

用微弧氧化方法在鑄造鋁合金表面獲得性能優良的陶瓷層對于提高其表面耐熱、耐蝕及耐磨性，擴大其應用范圍將具有重要意義。在微弧氧化過程中，通過控制電解液組成可以改善膜層性能。稀土金屬離子化學性質活潑而且有助于普通陶瓷的燒結。研究了ZAlSi12Cu2Mg1合金在Na2SiO3電解液體系中微弧氧化時，Ce3+/Ce4+的引入對微弧氧化陶瓷層性能的影響，測定陶瓷層的厚度、硬度，用X射線衍射儀(XRD)分析其相組成，掃描電鏡(SEM)觀察其表面形貌，并初步探討了Ce3+/Ce4+對陶瓷層形成機理的影響。結果表明：Ce3+在0.1～0.7g/L變化時，對陶瓷層的厚度和硬度影響較小，分別為165～193μm和449～935HV。Ce4+在0.1～0.7g/L變化時，陶瓷層的厚度和硬度分別為126～148μm和463～1022HV。XRD分析結果顯示，陶瓷層主要由α-Al2O3、γ-Al2O3、Al2SiO5和非晶相組成，加入Ce3+后，陶瓷層中Al2SiO5衍射強度明顯降低。

作者：

張靜，劉向東，劉曉麗，張雅萍，呂凱，烏迪

上傳時間：

2008-05-16 15:39:39

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