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氫、氧等離子體處理對氮化硼薄膜場發射特性的影響

資料類型：

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關鍵詞：

氮化硼薄膜場發射表面處理閾值電場發射電流

資料大?。?/td>

106K

所屬學科：

分子表征

來源：

2004年第五屆中國功能材料及其應用學術會議（9.12-9.16，北京.秦皇島）

簡介：

用RF磁控濺射的方法在Si（100）基底上沉積了納米氮化硼薄膜，然后分別用氫、氧等離子體對薄膜表面進行了處理，用紅外光譜、原子力顯微鏡、光電子能譜以及場發射試驗對薄膜進行了研究，結果表明氫等離子體使BN薄膜表面NEA增加，閾值電場降低，發射電流明顯增大。氧等離子體處理對BN薄膜的場發射特性影響不大，只是發射電流略有降低，這只能是由于氧化層存在的原因。

作者：

李衛青顧廣瑞李英愛何志馮偉劉麗華趙春紅趙永年

上傳時間：

2007-07-11 14:01:51

下載次數：

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