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鎳電極鍍鈷基板表面狀態(tài)分析

資料類型：

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關(guān)鍵詞：

電鍍鈷表面狀態(tài) 晶體形貌

資料大小：

142K

所屬學(xué)科：

分子表征

來源：

2004年第五屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議（9.12-9.16，北京.秦皇島）

簡介：

采用電鍍鈷的鎳基板模擬電鍍鈷泡沫鎳，用SEM、XPS和XRD分析手段，研究了鎳電極不同荷電狀態(tài)下基板材料的表面狀態(tài)。結(jié)果表明，電極化成后鍍鈷基板表面生成物有CoOOH和Co(OH)2，并且充電狀態(tài)下生成的CoOOH量多于放電狀態(tài)；同時(shí)發(fā)現(xiàn)，化成后的鍍鈷基板表面生成新的晶體，而且充、放電兩種狀態(tài)下的晶體形貌不同，電極充放電過程中基板表面發(fā)生了相變。

作者：

王殿龍王春雨戴長松姜兆華

上傳時(shí)間：

2007-07-11 17:15:34

下載次數(shù)：

616

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