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類三明治結(jié)構(gòu)C/Co/C納米顆粒膜微結(jié)構(gòu)和磁特性的研究

資料類型：

PDF文件

關(guān)鍵詞：

納米顆粒膜磁控濺射矯頑力剩磁比原位退火

資料大小：

192K

所屬學(xué)科：

分子表征

來源：

2004年第五屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議（9.12-9.16，北京.秦皇島）

簡介：

在室溫下，用對靶磁控濺射法制備了系列類三明治結(jié)構(gòu)C/Co/C顆粒膜。C靶和Co靶分別采用射頻濺射和直流對靶濺射模式，并且隨后進(jìn)行了原位退火。用振動樣品磁強(qiáng)計(jì)（VSM）和掃描探針顯微鏡（SPM）系統(tǒng)研究了C/Co/C顆粒膜的微結(jié)構(gòu)和磁特性與磁性層厚度、非磁性層厚度、退火溫度的關(guān)系。X射線衍射（XRD）圖樣顯示出退火400℃的樣品具有很好的六角密堆積結(jié)構(gòu)。掃描探針顯微鏡圖樣和δM曲線說明Co納米顆粒嵌在非晶質(zhì)的C母基內(nèi)。振動樣品磁強(qiáng)計(jì)測量表明磁矩很好的排列在膜面內(nèi)，隨著磁性層Co層厚度的增加，矯頑力（Hc）先增大然后減小。在Co層厚度為20nm，C層厚度為30nm，退火溫度400℃時，矯頑力達(dá)到最大值，剩磁比（S）接近于1。

作者：

封順珍孫會元于紅云高鳳菊賈連芝

上傳時間：

2007-07-16 17:06:49

下載次數(shù)：

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